Micron hat einen sehr wichtigen Meilenstein erreicht: Das Unternehmen hat mit der Produktion der ersten Testmuster von LPDDR5X-Speicherchips begonnen, die nun die 1-Gamma-Produktionstechnologie des Herstellers nutzen, die als erste das Potenzial der EUV-Lithografie ausschöpft. Technisch gesehen sind dies nicht die ersten 1-Gamma-DRAM-Chips von Micron, denn der Hersteller hat bereits einen 16-Gb-DDR5-9200-MT/s-Chip vorgestellt, der eine höhere Leistung und einen geringeren Stromverbrauch als seine Pendants der vorherigen Generation verspricht, aber es wurden keine weiteren Einzelheiten zu diesem Produkt veröffentlicht.
Der LPDDR5X-Speicherchip, der die 1-Gamma-Fertigungstechnologie verwendet und bereits an einige Partner des Unternehmens ausgeliefert wird, verfügt über recht beeindruckende Merkmale. Die neue Fertigungstechnologie basiert auf einer Bandbreite der 6. Generation der 10-nm-Klasse und ermöglicht es dem Speicherchip, mit einem um 20 % geringeren Stromverbrauch zu arbeiten und gleichzeitig eine um 15 % höhere Leistung sowie eine um 30 % höhere Bitdichte zu bieten. Alle drei Aspekte sind von größter Bedeutung, aber die deutliche Steigerung der Bitdichte könnte eine besonders gute Nachricht sein, denn wenn wir eine Ausgaberate erreichen können, die mit der Streifenbreite von 1 Beta vergleichbar ist, können wir mit 1 Gamma die Produktivität erheblich steigern, was mit der Zeit auch zu niedrigeren Herstellungskosten führen könnte.
Sanjay Mehrotra von Micron sagte, dass sich der 1-Gamma-Knoten des Unternehmens bereits in einer großartigen Position befindet, da die Ausbeute schneller steigt als bei der rekordverdächtigen 1-Beta-Fertigungstechnologie. In diesem Quartal wurden außerdem mehrere wichtige Meilensteine für die 1-Gamma-Technologie erreicht, darunter die Auslieferung der ersten 1-Gamma-LPDDR5-Speicherchips an Partner, die nun die erforderlichen Tests zur Qualifizierung der Produkte durchführen können.
Leider wurde nicht bekannt gegeben, wie viele Schichten der 1-Gamma-Produktionstechnologie mit EUV-Beschichtung auf EUV-Basis hergestellt werden. 1-Gamma verwendet natürlich neben EUV auch die klassische DUV-Beleuchtung für die Strukturierung der Schichten, aber aufgrund der bisherigen Erfahrungen ist es wahrscheinlich, dass EUV nur für komplexere, zeitaufwändige Schichten verwendet wird, die eine Mehrfachstrukturierung erfordern, da dies den Produktionsprozess beschleunigen und vereinfachen könnte. Sicher ist, dass bei der neuen Produktionstechnologie eine aktualisierte High-K-Metall-Gate-Struktur und ein neu gestalteter BEOL-Schaltkreis (Back-End of Line) zum Einsatz kommen werden. 1-Gamma wird derzeit nur in den Anlagen des Unternehmens in Japan hergestellt, aber die Produktionskapazitäten könnten in Zukunft sowohl in Japan als auch in Taiwan erweitert werden.
Im Laufe der Zeit plant das Unternehmen, sein gesamtes Speicherportfolio auf die 1-Gamma-Produktionstechnologie umzustellen, so dass neben DDR5 und LPDDR5-Chips auch GDDR7-Chips für fortschrittliche Videokarten und Produkte für Rechenzentren das Potenzial dieser Technologie nutzen können.
